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徠卡 MICA 全場(chǎng)景顯微成像分析平臺 共聚焦

描述:徠卡 MICA 全場(chǎng)景顯微成像分析平臺 共聚焦
徠卡MICA全場(chǎng)景顯微成像分析平臺是一款集成了寬場(chǎng)成像和共聚焦成像技術(shù)的先進(jìn)顯微鏡系統。該平臺通過(guò)創(chuàng )新的設計和技術(shù),為科研工作者提供了全新的顯微成像體驗。

  • 產(chǎn)品型號:
  • 廠(chǎng)商性質(zhì):經(jīng)銷(xiāo)商
  • 更新時(shí)間:2024-06-20
  • 訪(fǎng)問(wèn)次數:272
產(chǎn)品詳情/ PRODUCT DETAIL

產(chǎn)品概述

品牌Leica/徠卡產(chǎn)地類(lèi)別進(jìn)口
應用領(lǐng)域食品,石油,交通,制藥,綜合

徠卡 MICA 全場(chǎng)景顯微成像分析平臺 共聚焦

徠卡MICA全場(chǎng)景顯微成像分析平臺是一款集成了寬場(chǎng)成像和共聚焦成像技術(shù)的先進(jìn)顯微鏡系統。該平臺通過(guò)創(chuàng )新的設計和技術(shù),為科研工作者提供了全新的顯微成像體驗。

共聚焦顯微鏡作為MICA平臺的重要組成部分,具有優(yōu)勢。共聚焦顯微鏡利用放置在光源(激光)后的照明針孔和放置在檢測器前的探測針孔,實(shí)現點(diǎn)照明和點(diǎn)探測。光源通過(guò)照明針孔發(fā)射出的光聚焦在樣品焦平面的某個(gè)點(diǎn)上,該點(diǎn)所發(fā)射的熒光成像在探測針孔內。焦平面以外的任何發(fā)射光均被探測針孔阻擋,從而能夠清晰地獲得焦平面上的熒光信號。

徠卡 MICA 全場(chǎng)景顯微成像分析平臺 共聚焦

徠卡 MICA 全場(chǎng)景顯微成像分析平臺 共聚焦

MICA平臺中, 徠卡 MICA 全場(chǎng)景顯微成像分析平臺 共聚焦的應用得到了進(jìn)一步的提升。通過(guò)計算機控制,共聚焦顯微鏡能夠以像點(diǎn)的方式將被探測點(diǎn)顯示在計算機屏幕上,由光路中的掃描系統在樣品焦平面上掃描,從而產(chǎn)生一幅完整的共焦圖像。這種技術(shù)不僅提高了軸向的清晰度和側向分辨率,而且能夠屏蔽次級熒光,使圖像質(zhì)量得到顯著(zhù)提升。

此外,MICA平臺還集成了環(huán)境培養控制系統,能夠在密閉箱式空間內實(shí)現樣品的寬場(chǎng)和共聚焦成像。這種設計不僅保證了成像的穩定性,而且能夠方便地觀(guān)察活的細胞或組織。高度自動(dòng)化和智能化的設計使得操作者可以輕松設置圖像通道,獲得高質(zhì)量的圖像結果。

總之,徠卡MICA全場(chǎng)景顯微成像分析平臺通過(guò)集成寬場(chǎng)和共聚焦成像技術(shù),為科研工作者提供了全新的顯微成像解決方案。該平臺不僅具有高度的自動(dòng)化和智能化特點(diǎn),而且能夠提供高質(zhì)量的圖像結果,為科學(xué)研究提供了有力的支持。


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